2021年10月25日（月）～27日（水）にオンラインで開催された 第41回ナノテスティングシンポジウム NANOTS 2021 にて、日本エフイー･アイ株式会社の田中英夫氏により、「回路修正におけるハイスループット銅除去技術」についての研究発表が行われました。
デンケンエレクトロニクス事業部評価解析課では、この技術を実例で検証するなど、FIBエンジニアとして研究に協力いたしました。

【ナノテスティングシンポジウム2021会議録】
　PDF：High throughput Copper Removal of Frontside Circuit Edit
　copyright © ナノテスティング学会
［著作者］※敬称略
　日本FEI：田中 英夫
　Thermo Fisher Scientific：Michael Wong、David Pan
　デンケン：國廣 紗央、佐藤 美友紀